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PRODUCTS & SOLUTIONS

产品与方案

围绕刻蚀、薄膜沉积、CMP 与量测四大工艺环节,提供多区控温、精密控压与核心零部件组合方案。

刻蚀设备工艺场景01

Etch process control

刻蚀设备

为半导体刻蚀工艺提供高精度温控与压力控制解决方案,确保刻蚀过程稳定可靠。

CMP设备工艺场景02

Planarization pressure control

CMP设备

为化学机械抛光工艺提供精密压力控制与流体管理解决方案,实现晶圆表面高精度平坦化。

薄膜沉积设备工艺场景03

Thin film thermal control

薄膜沉积设备

为化学气相沉积与物理气相沉积工艺提供高精准温控解决方案,确保薄膜均匀性与工艺稳定性。

量测设备工艺场景04

Metrology & inspection

量测设备

为半导体量测与检测工艺提供高精度定位与稳定控制解决方案,确保测量数据准确可靠。

其他工艺场景05

Customized components

其他

提供定制化半导体设备核心零部件解决方案,满足不同工艺场景的特殊需求。

LET'S TALK

让核心零部件稳定运行在您的产线上

从选型评估、样品测试到现场更换,我们按您的工艺节拍安排交付窗口。