PLANARIZATION PRESSURE CONTROL
CMP设备
为化学机械抛光工艺提供精密压力控制与流体管理解决方案，实现晶圆表面高精度平坦化。
CMP设备产品
共 7 款在售型号，可按机台接口定制。
数据更新于 2026 年 09 月
CMP设备6PSI控压阀组
6 PSI 精密压力控制阀组，适用于 CMP 低压工艺区间。
psi6
CMP设备6PSI控压阀组 Pro
增强型 6 PSI 阀组，更高响应速度与长期稳定性。
psi6-pro
CMP设备15PSI控压阀组
15 PSI 中压控制阀组，适用于常规 CMP 工艺压力区间。
psi15
CMP设备6PORT控压阀组
6 端口多路压力控制阀组，支持多区域独立控压。
port6
CMP设备2通道压力控制模组
2 通道独立压力控制模组，适用于结构简单的工艺场景。
pc-2
CMP设备4通道压力控制模组
4 通道压力控制模组，在性能与成本之间取得平衡。
pc-4
CMP设备8通道压力控制模组
8 通道高密度压力控制模组，适用于复杂 CMP 工艺。
pc-8
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