THIN FILM THERMAL CONTROL
薄膜沉积设备
为化学气相沉积与物理气相沉积工艺提供高精准温控解决方案，确保薄膜均匀性与工艺稳定性。
薄膜沉积设备产品
共 6 款在售型号，可按机台接口定制。
数据更新于 2026 年 09 月
薄膜沉积设备TS-C200 加热控制器
筒式加热器专用控制器，支持多段升温曲线与超温保护。
ts-c200
薄膜沉积设备TS-C208 加热控制器
8 回路加热控制器，面向阵列式筒式加热器集中管理。
ts-c208
薄膜沉积设备VSCVD-Node0 控制板
面向 CVD 工艺节点的分布式控制板，支持总线级联。
node0
薄膜沉积设备VSCVD-Node1 控制板
升级型 Node 控制板，增加模拟量通道与本地逻辑能力。
node1
薄膜沉积设备CVD-MRCC
多通道继电器控制板，用于薄膜工艺的时序与互锁控制。
cvd-mrcc
薄膜沉积设备CVD-Tetra Control
四通道温控与信号调理一体板，适合多区薄膜沉积设备。
cvd-tetra
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