ETCH PROCESS CONTROL
刻蚀设备
为半导体刻蚀工艺提供高精度温控与压力控制解决方案，确保刻蚀过程稳定可靠。
刻蚀设备产品
共 14 款在售型号，可按机台接口定制。
数据更新于 2026 年 09 月
刻蚀设备主区加热控制器 MH-100
同一硬件平台可按工艺需求配置多种软件方案，适配多样化工艺环境与场景。
mh-100
刻蚀设备主区加热控制器 MH-200
增强型多通道控温平台，面向更高温区均匀性与快速升温节拍需求。
mh-200
刻蚀设备微区控温模块 MT-10
精密控温模块，适用于晶圆边缘补偿与局部温度微调区域。
mt-10
刻蚀设备微区控温模块 MT-20
高分辨率微区控温模块，支持多通道独立调节与工况自适应。
mt-20
刻蚀设备集成控温模块 IT-300
多区一体化控温方案，将主区与微区控制整合于同一控制柜。
it-300
刻蚀设备ESC控制背板 8A
8 通道静电卡盘控制背板，高集成度设计，支持多区偏压独立输出。
esc-8a
刻蚀设备ESC控制背板 8B
增强型 8 通道 ESC 背板，支持更高电压输出与冗余通道配置。
esc-8b
刻蚀设备ESC控制背板 01
基础型 ESC 控制背板，适用于标准刻蚀工艺的偏压控制需求。
esc-01
刻蚀设备ESC控制背板 A1
面向先进工艺节点的高压 ESC 背板，兼顾输出稳定性与响应速度。
esc-a1
刻蚀设备MUX Board 8A
8 通道多路复用板，面向高速信号切换与通道扩展。
mux-8a
刻蚀设备MUX Board 8B
增强型 8 通道多路复用板，低串扰布线适合微弱信号采集。
mux-8b
刻蚀设备MUX Board 01
基础型多路复用板，适用于标准信号路由与机架式安装。
mux-01
刻蚀设备MUX Board A1
扩展型多路复用板，支持更多通道配置与灵活拓扑。
mux-a1
刻蚀设备LTC刻蚀-24H温度控制
面向长时间连续刻蚀运行的温控方案，强调稳定性与免维护。
ltc-24h
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